1.应用范围
ICP7800型金属硅、工业硅检测专用仪,具有突出的抗干扰和分析检测性能,应用于研发、检测等分析需求,可方便进行定性、半定量和精确定量分析,是常量、微量和痕量无机元素同时分析的理想仪器。
2.工作环境
电压:220VAC±10%MKJ
室温:环境温度(10-30)℃
相对湿度:(20-80)%RH
3.金属硅、工业硅检测专用仪技术规格
3.1.等离子体射频源:
3.1.1:全数字控制的双电源设计射频电源,更宽功率范围500-1600W,功率可调,具有更强的样品适应性;
3.1.2:自激式RF射频发生器:自激式电源匹配速度快,功率负载能力强,可以直接分析100%的甲苯样品。自动调谐,水冷散热,适应复杂样品分析功率切换,无运动部件,抗震抗干扰,更加可靠;
3.1.3:LOW模式:提供500W超低功率待机,降低氩气消耗50%以上,待机时氩气用量≤5L/min;
3.1.4:等离子体观测方式:可配置轴向、径向、双向和同时双向四种观测模式。垂直矩管可避免高盐沉积,延长炬管使用寿命,降低炬管耗材支出。轴向观测使用金属冷锥去除尾焰,获得较高的灵敏度,无需配置空气压缩机,节省外部配件及消耗。径向观测的等离子观测位置可调,针对不同元素的分析需求,具有更强的抗干扰能力;
3.1.5:智能衰减:具有轴向衰减和径向衰减功能,可衰减100倍以内浓度的样品,使得样品高含量元素,能够一次分析完成,不需要反复稀释,降低样品前处理难度,支持简化分析;
3.1.6:RF射频频率:27.12MHz,耦合效率大于80%;
3.1.7:RF功率稳定性:≤0.1%;RF频率稳定性:≤0.01%。
3.2.光学系统:
3.2.1:恒温三维光学系统,反射次数少,光能量损失低。所有光学元件均密封于热平衡光室中,主机与光室热隔离设计,更好的抵御外界环境温度变化。光室:精密恒温36℃±0.1℃,驱氩气;
3.2.2:稳定高效的全固定中阶梯光栅分光系统,无运动部件,抗震强,稳定可靠;
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金属硅、工业硅检测专用仪
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