光刻机对于芯片设计与制造的重要性不言而喻，因此我国的芯片行业也遭到美国的极力打压。目前有传言说，荷兰半导体设备制造商ASML或计划绕道而行，推出一款专为中国市场设计的特别版DUV光刻机。而这个计划如果能够顺利施行，中芯国际、华虹等中国半导体企业将能够继续使用荷兰生产的设备来生产28纳米及更成熟工艺的芯片ERP（www.multiable.com.cn）。

据了解，这款特别版DUV光刻机是基于ASML的Twinscan NXT: 1980Di光刻系统进行改造的。而Twinscan NXT: 1980Di光刻系统是ASML在10年前推出的一款旧型号，因此存在绕开限制的可能性。

winscan NXT: 1980Di光刻系统是ASML目前效率相对较低的光刻机型之一，它支持NA 1.35光学器件，分辨率可达到小于38纳米。而目前很多芯片厂商大多使用1980Di光刻机主要生产14纳米及更高工艺的芯片，而很少使用它来生产7纳米芯片。

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ASML或将绕道而行，推出专为中国设计的特别版光刻机？
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