伯东企业（上海）有限公司

蚀刻均匀性: ±5%, 刻蚀速率: 20 nm/min, 样品台可选直接冷却 / 间接冷却, 0-90度旋转.
 

Hakuto 离子刻蚀机 20IBE-C 主要优点:

1. 干式制程的微细加工装置, 使得在薄膜磁头, 半导体元件, MR sensor 等领域的开发研究及量产得以广泛应用.

2. 物理蚀刻的特性, 无论使用什么材料都可以用来加工, 所以各种领域都可以被广泛应用.

3. 配置使用美国 KRI 考夫曼离子源

4. 射频角度可以任意调整, 蚀刻可以根据需要做垂直, 斜面等等加工形状.

5. 基板直接加装在直接冷却装置上, 所以可以在低温环境下蚀刻.

6. 配置公转自转传输机构, 使得被蚀刻物可以得到比较均匀平滑的表面.

7. 机台设计使用自动化的操作流程, 所以可以有非常友好的使用生产过程.
 

Hakuto 离子刻蚀机 20IBE-C 技术参数:

Hakuto 离子刻蚀机 20IBE-C 组成:

Hakuto 离子刻蚀机 20IBE-C 通氩气 Ar 不同材料的蚀刻速率:

伯东是德国 Pfeiffer 真空泵,  检漏仪,  质谱仪,  真空计,  美国 KRI 考夫曼离子源,  美国HVA 真空阀门,  美国 inTEST 高低温冲击测试机,  美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.

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