紫外滤光片是一种光学元件, 通过使用分散在玻璃材料表面的光学薄膜控制入射光通过膜层后不同波长光的透反比. 222nm是紫外不可避免的一个波段, 因为其生物体透过率低, 被誉为对人体安全的紫外线.222nm远紫外杀菌产品一定程度上解决了传统紫外线不能直接照射人体的痛点问题, 兼顾了功能性和安全性, 实现了人机友好共存, 有效减少和灭杀身体表面多达99.9%的细菌和病原体.
紫外线在222nm下工作对滤光片生产厂家来说是一项挑战, 因为许多常用材料在这个波段有较大的吸收、甚至不通光. 大多数干涉滤光片的设计都假设光只被透射或反射而不被吸收, 而远紫外波段由于吸收较大、材料选择有限, 镀膜难以获得较高的透过成为业内的一个难题. 为了解决传统紫外滤光片膜层光谱吸收严重等问题, 经过推荐上海伯东某客户采用光学镀膜机加装美国原装进口 KRi 大尺寸射频离子源 RFICP 380 镀制222nmUVC 紫外滤光片, 选取紫外通光性能及高低折射率较好的基底和材料, 镀膜效果可达到客户高品质要求.
KRI 离子源用于UVC人机共存紫外滤光片镀膜
上海伯东美国原装进口 KRi 大尺寸射频离子源 RFICP 380辅助沉积镀制222nm紫外滤光片, 能够尽可能地减小材料在紫外波段的吸收, 并且沉积过程稳定, 加以合理的膜系设计和均匀性修正, 可以很好地镀制出透过率高、截止深度高、温度漂移小、膜层致密性好、使用寿命长的产品, 解决业内在紫外波段镀膜透过率不高以及温漂的难题.
上海伯东美国 KRi 射频离子源 RFICP 系列, 无需灯丝提供高能量, 低浓度的离子束, 通过栅极控制离子束的能量和方向, 单次工艺时间更长! 射频离子源 RFICP 系列提供完整的系列, 包含离子源本体, 电子供应器, 中和器, 自动控制器等. 射频离子源适合多层膜的制备, 离子溅镀镀膜和离子蚀刻, 改善靶材的致密性, 光透射, 均匀性, 附着力等.
射频离子源 RFICP 系列技术参数:
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型号 |
RFICP 40 |
RFICP 100 |
RFICP 140 |
RFICP 220 |
RFICP 380 |
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Discharge 阳极 |
RF 射频 |
RF 射频 |
RF 射频 |
RF 射频 |
RF 射频 |
|
离子束流 |
>100 mA |
>350 mA |
>600 mA |
>800 mA |
>1500 mA |
|
离子动能 |
100-1200 V |
100-1200 V |
100-1200 V |
100-1200 V |
100-1200 V |
|
栅极直径 |
4 cm Φ |
10 cm Φ |
14 cm Φ |
22 cm Φ |
38 cm Φ |
|
离子束 |
聚焦, 平行, 散射 |
||||
|
流量 |
3-10 sccm |
5-30 sccm |
5-30 sccm |
10-40 sccm |
15-50 sccm |
|
通气 |
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
||||
|
典型压力 |
< 0.5m Torr |
< 0.5m Torr |
< 0.5m Torr |
< 0.5m Torr |
< 0.5m Torr |
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长度 |
12.7 cm |
23.5 cm |
24.6 cm |
30 cm |
39 cm |
|
直径 |
13.5 cm |
19.1 cm |
24.6 cm |
41 cm |
59 cm |
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中和器 |
LFN 2000 or RFN |
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上海伯东同时提供真空系统所需的涡轮分子泵, 真空规, 高真空插板阀等产品, 协助客户生产研发高质量的真空系统.
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项专利. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域.
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KRI 离子源用于UVC人机共存紫外滤光片镀膜
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