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KRI 离子源用于离子束抛光机

发布时间:2023-11-17 16:32        浏览次数:14        返回列表

 

    离子束抛光适用于大面积、异型、特殊材料等加工对象的超高精度非接触式修形及抛光精度可达亚纳米级被誉为终极抛光离子束抛光机的最核心部件是可聚焦的高能量离子源上海伯东某客户为专业精密光学元器件设备制造商主要产品为离子束抛光机、磁流变抛光机等提供超精密光学工艺制造研发服务是一家超精密光学元器件解决方案提供商经推荐该客户采用上海伯东美国 KRi 直流电源式考夫曼离子源 KDC 系列成功应用于光学镀膜离子束抛光机.

 

KRI 离子源用于离子束抛光机 

应用方向:非接触式亚纳米离子束表面修形

应用领域:半导体/精密光学

产品类别:高精密光学器件

加工指标:

1. 加工尺寸能力 5-1200mm 

2. 采用非接触式加工无边缘效应不产生亚表面损伤;

3. 亚纳米加工精度可实现面型 RMS<3nm 高精度抛光能力;

4. 加工光学元器件形状有:平面、球面、非球面、自由曲面、离轴非球面等;

5. 加工光学元器件材料有:石英玻璃、微晶、超低膨胀玻璃、KDP 晶体、蓝宝石、硅、碳化硅、红外材料等

 

    美国 KRI 考夫曼公司新升级 Gridded KDC 系列离子源新的特性包含自对准离子光学和开关式电源控制考夫曼离子源 KDC 系列包含多种不同尺寸的离子源满足各类应用考夫曼离子源通过控制离子的强度及浓度使抛光刻蚀速率更快更准确抛光后的基材上获得更平坦均匀性更高的薄膜表面. KDC 考夫曼离子源内置型的设计更符合离子源在离子抛光机内部的移动运行.

 

上海伯东美国 KRi 考夫曼离子源 KDC 系列根据客户离子抛光工艺条件提供如下型号:

 

型号

KDC 10

KDC 40

KDC 75

KDC 100

KDC 160

Discharge 阳极

DC 电流

DC 电流

DC 电流

DC 电流

DC 电流

离子束流

>10 mA

>100 mA

>250 mA

>400 mA

>650 mA

离子动能

100-1200 V

100-1200 V

100-1200 V

100-1200 V

100-1200 V

栅极直径

1 cm Φ

4 cm Φ

7.5 cm Φ

12 cm Φ

16 cm Φ

离子束

聚焦平行散射

 

流量

1-5 sccm

2-10 sccm

2-15 sccm

2-20 sccm

2-30 sccm

通气

Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

典型压力

< 0.5m Torr

< 0.5m Torr

< 0.5m Torr

< 0.5m Torr

< 0.5m Torr

长度

11.5 cm

17.1 cm

20.1 cm

23.5 cm

25.2 cm

直径

4 cm

9 cm

14 cm

19.4 cm

23.2 cm

中和器

灯丝

 

KRI 考夫曼离子源其余相关应用:

美国 KRi 考夫曼离子源 KDC 40 热蒸镀机应用 (hakuto-china.cn)

离子源表面预清洁 Pre-clean 应用 (hakuto-china.cn)

伯东 KRI 考夫曼离子源 KDC 160 辅助沉积高铝超硬涂层增强切削性能 (hakuto-china.cn)

 

 

相关产品:

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上海伯东同时提供真空系统所需的涡轮分子泵, 真空规, 高真空插板阀等产品, 协助客户生产研发高质量的真空系统.
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项专利. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域.

若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式:
上海伯东: 罗小姐                                   台湾伯东: 王小姐
T: +86-21-5046-3511 ext 108              T: +886-3-567-9508 ext 161
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